Target 보관 Vacuum Chamber

적용설비 : 300MM CVD 공정

• 제품 특징

• 반도체 파트 또는 파트 구성품 중 공기 중 쉽게 산화되는 성질을 가진 각종 희토류 원소 계열 등, 각종 파트의 공기 중 산화 방지를 위한 진공 보관함.

• Digital Gauge / Vacuum Valve / Relief Valve / N2 Purge Valve / Signal Tower(옵션).